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    L75 / High Pressure高溫膨脹儀

    更新日期2023-02-15

    所屬分類高溫膨脹儀

    報價

    訪問次數4767

    產品描述:德國林賽斯 L75 / High Pressure高溫膨脹儀:
    Linseis研發的單桿-熱膨脹儀、雙桿-熱膨脹儀、差示-熱膨脹儀、四桿-熱膨脹儀、淬火-熱膨脹儀( 熱膨脹相變儀)、激光熱膨脹儀和光學法膨脹儀等多種設備,測量溫度范圍從-180°C—2800°C,分辨率高達0.3nm。 Linseis多年的熱膨脹儀研究經驗(始于1953年),Linseis的熱膨脹儀具有的優異性能。

    產品概述

    品牌LINSEIS/林賽斯價格區間面議
    產地類別進口應用領域綜合
    L75 / High Pressure高溫膨脹儀大大拓展了熱分析的應用范圍。該系統可以在溫度從室溫到1100/1400/1800 ℃,并在該壓力達到100/150 bar的環境中測量的材料的膨脹(長度的改變)。此設備是目前世界上可用的高壓膨脹儀??蛇x用水蒸氣發生裝置和多氣體控制系統。

    為了測量數據和拓寬測量范圍,可以使用QMS和FTIR對逸出的氣體進行分析。耦合后的功能超過單獨部件的總和。用戶通過LINSEIS耦合技術和綜合硬件和軟件,采用不同數據庫對數據進行分析以得到*的結果。

    L75 / High Pressure高溫膨脹儀技術參數:


    型號

    DIL L75 HP / 1

    DIL L75 HP/2

    溫度范圍*

    RT -- 1100°C

    RT -- 1400/1800°C

    zui大壓力

    zui大150 bar

    zui大100 bar

    真空

    10E-4 mbar

    10E-4 mbar

    樣品支架

    熔融石英 < 1100°C

    熔融石英 < 1100°C

    Al2O3 < 1750°C

    Al2O3 < 1750°C

    zui大樣品長度

    50 mm

    50 mm

    樣品直徑

    7/12/20 mm

    7/12/20 mm

    可調樣品壓力

    zui大 1000 mN

    zui大 1000 mN

    測量范圍

    500 / 5000 µm

    500 / 5000 µm

    分辨率

    0.125 nm

    0.125 nm

    可選裝置

    壓力可控混氣系統 (MFC′s)

    壓力可控混氣系統 (MFC′s)

    氣氛

    惰性, 氧化性, 還原性, 真空

    惰性, 氧化性, 還原性, 真空

    * 取決于不同爐體

    * 不適用于石墨加熱爐





     

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